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1、研磨后的清洗
研磨是光學(xué)玻璃中決定其效率和表面質(zhì)量(外觀和度)的重要序。研磨序中的主要污染物為研磨粉和瀝青,少數(shù)企業(yè)的過程中會(huì)有漆片。其中研磨粉的型號(hào)各異,般是以二氧化鈰為主的堿金屬氧化物。根據(jù)鏡片的材質(zhì)及研磨度不同,選擇不同型號(hào)的研磨粉。在研磨過程中使用的瀝青是起保護(hù)作用的,以防止拋光的鏡面被劃傷或腐蝕。研磨后的清洗設(shè)備大致分為兩種: 種主要使用有機(jī)溶劑清洗劑,另種主要使用半水基清洗劑。
2、鍍膜前清洗
鍍膜前清洗的主要污染物是求芯油(也稱磨邊油,求芯也稱定芯、取芯,為了得到規(guī)定的半徑及芯度而選用的序)、手印、灰塵等。由于鍍膜序?qū)︾R片潔凈度的要求為嚴(yán)格,因此清洗劑的選擇是很重要的。在考慮某種清洗劑的清洗能力的同時(shí),還要考慮到他的腐蝕性等方面的問題。
聲波清洗機(jī)作頻率很低(在人的聽覺范圍內(nèi))就會(huì)產(chǎn)生噪音。當(dāng)頻率低于20kHz時(shí),作噪音不僅變得很大,而且可能出職業(yè)安與保健法或其它條例所規(guī)定的安噪音的限度。在需要率去除污垢而不用考慮件表面損傷的應(yīng)用中,通常選擇從20kHz到30kHz范圍內(nèi)的較低清洗頻率。該頻率范圍內(nèi)的清洗頻率常常被用于清洗大型、重型零件或密度材料的件。
低頻通常被用于清洗較小、較的零件,或清除微小顆粒。頻還被用于被件表面不允許損傷的應(yīng)用。使用頻可從幾個(gè)方面改善清洗性能。隨著頻率的增加,空化泡的數(shù)量呈線形增加,從而產(chǎn)生更多更密集的沖擊波使其能入到更小的縫隙中。如果率保持不變,空化泡變小,其釋放的能量相應(yīng)減少,這樣有效地減小了對(duì)件表面的損傷。頻的另個(gè)優(yōu)勢在于減小了粘滯邊界層
空化作用就是聲波以每秒兩次以上的壓縮力和減壓力交互性的頻變換方式向液體行透射。在減壓力作用時(shí),液體中產(chǎn)生真空核群泡的現(xiàn)象,在壓縮力作用時(shí),真空核群泡受壓力壓碎時(shí)產(chǎn)生強(qiáng)大的沖擊力,由此剝離被清洗物表面的污垢,從而達(dá)到洗凈目的
聲波在液體中沿聲的傳播方向產(chǎn)生動(dòng)的現(xiàn)象稱為直。聲波強(qiáng)度在0.5W/cm2時(shí),肉眼能看到直,垂直于振動(dòng)面產(chǎn)生動(dòng),速約為10cm/s。通過此直使被清洗物表面的微油污垢被攪拌,污垢表面的清洗液也產(chǎn)生對(duì),溶解污物的溶解液與新液混合,使溶解速度加快,對(duì)污物的搬運(yùn)起著很大的作用。
液體粒子推動(dòng)產(chǎn)生的加速度。對(duì)于頻率較的聲波清洗機(jī),空化作用就很不顯著了,這時(shí)的清洗主要靠液體粒子聲作用下的加速度撞擊粒子對(duì)污物行清洗。
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